「Runwayml发布新功能：动态笔刷、第二代风格预设和高级摄像机控制更新」

Runwayml发布了一系列新功能和更新，旨在为用户提供更多控制选项、更高忠实度和更丰富的表现力。这些更新包括引入动态笔刷（Motion Brush），允许用户为生成内容添加可控制的运动；第二代风格预设（Gen-2 Style Presets），简化艺术风格的选择与应用；导演模式的高级摄像机控制功能更新，提供更细致的调整能力；以及图像模型的更新，改进了生成内容的忠实度、一致性和分辨率。这些更新共同增强了用户在创作过程中的控制能力和表达自由度。